Сайты ТУСУРа
Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что  Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в  настройках своего браузера. Подробнее
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам услуги, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (Сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервиса Яндекс.Метрика)

Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров

Статья в журнале

Приводятся результаты исследования влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами в процессе напыления на их поверхность тонких пленок методом магнетронного распыления. Показано, что такая электронно-ионная бомбардировка подложек приводит к ухудшению их параметров, при этом применение магнитной отклоняющей системы способствует сохранению исходных параметров подложек.

Журнал:

  • Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век
  • Радиотехника (Москва)

Библиографическая запись: Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров: [Электронный ресурс] / Ю. С. Жидик [и др.] // Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век. – 2018. – Т. 10. - №4. – С. 3-8. – DOI: 10.18127/j22250980-201804-01

Индексируется в:

Год издания:  2018
Страницы:  3 - 8
Язык:  Русский
DOI:  10.18127/j22250980-201804-01