Сайты ТУСУРа

Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров

Статья в журнале

Приводятся результаты исследования влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами в процессе напыления на их поверхность тонких пленок методом магнетронного распыления. Показано, что такая электронно-ионная бомбардировка подложек приводит к ухудшению их параметров, при этом применение магнитной отклоняющей системы способствует сохранению исходных параметров подложек.

Журнал:

  • Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век
  • Радиотехника (Москва)

Библиографическая запись: Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров: [Электронный ресурс] / Ю. С. Жидик [и др.] // Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век. – 2018. – Т. 10. - №4. – С. 3-8. – DOI: 10.18127/j22250980-201804-01

Индексируется в:

Год издания:  2018
Страницы:  3 - 8
Язык:  Русский
DOI:  10.18127/j22250980-201804-01