Сайты ТУСУРа
Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что  Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в  настройках своего браузера. Подробнее
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам услуги, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (Сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервиса Яндекс.Метрика)

Применение форвакуумных плазменных источников электронов для обработки диэлектриков

Монография

Представлены новые возможности электронно-лучевой технологии, а именно применение электронного пучка для непосредственной обработки непроводящих материалов – диэлектриков. Рассмотрены процессы электронно-лучевой сварки, спекания, модификации и стерилизации поверхности, плавления, изготовления отверстий. Основное внимание уделено различным сортам керамик на основе оксидов алюминия, циркония, карбида кремния, а также полимерам. Для разработчиков источников электронов, электронно-лучевых технологических установок, а также специалистов, использующих электронные пучки в решении прикладных задач. Полезна студентам и аспирантам высших учебных заведений, специализирующимся в областях вакуумной и плазменной электроники, разработки электронно-лучевого оборудования.

Библиографическая запись: Применение форвакуумных плазменных источников электронов для обработки диэлектриков : монография / А.С. Климов [и др.]. – Томск: Изд-во Томск. гос. ун-та систем упр. и радиоэлектроники, 2017. – 186 с. – ISBN 978-5-86889-773-3

Издательство:

Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники (Томск)

Год издания:  2017
Количество страниц:  186
ISBN:  978-5-86889-773-3
Язык:  Русский