Методические указания к лабораторной работе для студентов направления 210100.62 – Электроника и наноэлектроника
Целью настоящей работы является изучение процесса ионной обработки материалов, выяснение механизма ионного травления, расчеты параметров ионного травления. В ходе выполнения работы у студентов формируются:
- способность строить простейшие физические и математические модели приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения, а также использовать стандартные программные средства их компьютерного моделирования (ПК-19);
- способность аргументировано выбирать и реализовывать на практике эффективную методику экспериментального исследования параметров и характеристик приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения (ПК-20).
Библиографическая запись:
Орликов, Л. Н. Исследование процесса ионной обработки материалов: Методические указания к лабораторной работе для студентов направления 210100.62 – Электроника и наноэлектроника [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2013. — 18 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/3435
Оглавление (содержание)
1 Введение
2 Теоретическая часть
2.1. Модели ионного распыления
2.2 Эффективность ионного распыления
2.3 Скорость распыления материалов
2.4 Влияние рода газа на травление
2.5 Скорость осаждения пленок при ионном распылении
2.6 Вольт-амперная характеристика газоразрядного устройства для обработки материалов
2.7 Контрольные вопросы
3 Экспериментальная часть
3.1 Вакуумное оборудование
3.2 Электронное оборудование
3.3 Порядок выполнения работы и методические указания
3.4 Вопросы для самопроверки
3.5 Содержание отчета
Список литературы
