Исследование виртуальной метрологии с использованием физико-технологического моделирования

Статья в сборнике трудов конференции

Исследованы принципы реализации подхода виртуальной метрологии для предсказательного моделирования процесса формирования фоторезистивной маски. Описаны принципы получения экспериментальных данных, необходимых для построения предсказательных моделей, с помощью физико-технологической модели процесса формирования фоторезистивной маски. Построены предсказательные модели на основе многомерной линейной регрессии, регрессии на основе метода опорных векторов, искусственной нейронной сети и решающего леса. Данные модели позволяют предсказывать ширину фоторезистивной маски на основе входных параметров физико-технологической модели, эквивалентных параметрам технологического оборудования.

Библиографическая запись: Исследование виртуальной метрологии с использованием физико-технологического моделирования: [Электронный ресурс] / А. А. Попов [и др.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIV международной научно-практической конференции (Томск, 28-30 ноября 2018 г.). – Томск: В-Спектр, 2018. – С. 53-56.

Конференция:

• XIV Международная научно-практическая конференция "Электронные средства и системы управления"
• Россия, Томская область, Томск, 28-30 ноября 2018,
• Международная

Издательство:

В-Спектр

Россия, Томская область, Томск