Сайты ТУСУРа

Построение поведенческих моделей процесса проявления фоторезистивной маски

Статья в сборнике трудов конференции

Рассмотрены методы построения поведенческих моделей процесса проявления первичной фоторезистивной маски. Разработаны поведенческие модели с использованием двух методов машинного обучения: линейной регрессии и искусственной нейронной сети. Построенные модели позволяют предсказывать ширину бокового проявления первичной фоторезистивной маски на основе параметров проявителя и режима проявления.

Библиографическая запись: Построение поведенческих моделей процесса проявления фоторезистивной маски [Электронный ресурс] / А. А. Попов [и др.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIII Международной научно-практической конференции (29 ноября – 1 декабря 2017 г.): В двух частях. – Ч. 1. – Томск: В-Спектр, 2017. – С. 110-113.

Конференция:

  • Электронные средства и системы управления: XIII Международная научно-практическая конференция, посвященная 55-летию ТУСУРа
  • Россия, Томская область, Томск, 29 ноября-01 декабря 2017,
  • Международная

Издательство:

В-Спектр

Россия, Томская область, Томск

Научный руководитель:  Сальников А. С.
Год издания:  2017
Страницы:  110 - 113
Язык:  Русский
Индексируется в РИНЦ