Построение поведенческих моделей процесса проявления фоторезистивной маски
Статья в сборнике трудов конференции
Рассмотрены методы построения поведенческих моделей процесса проявления первичной фоторезистивной маски. Разработаны поведенческие модели с использованием двух методов машинного обучения: линейной регрессии и искусственной нейронной сети. Построенные модели позволяют предсказывать ширину бокового проявления первичной фоторезистивной маски на основе параметров проявителя и режима проявления.
Библиографическая запись: Построение поведенческих моделей процесса проявления фоторезистивной маски [Электронный ресурс] / А. А. Попов [и др.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIII Международной научно-практической конференции (29 ноября – 1 декабря 2017 г.): В двух частях. – Ч. 1. – Томск: В-Спектр, 2017. – С. 110-113.
Ключевые слова:
ПЕРВИЧНАЯ ФОТОРЕЗИСТИВНАЯ МАСКА БОКОВОЕ ПРОЯВЛЕНИЕ МАШИННОЕ ОБУЧЕНИЕ ЛИНЕЙНАЯ РЕГРЕССИЯ ИСКУССТВЕННЫЕ НЕЙРОННЫЕ СЕТИКонференция:
- Электронные средства и системы управления: XIII Международная научно-практическая конференция, посвященная 55-летию ТУСУРа
- Россия, Томская область, Томск, 29 ноября-01 декабря 2017,
- Международная
Издательство:
В-Спектр
Россия, Томская область, Томск