RIE Process Behavioral Models Based on Tree Ensembles and Neural Network
Статья в сборнике трудов конференции
The possibilities of using Tree Ensembles and Artificial Neural Networks for modeling the reactive ion etching process of deep trench etching in the silicon substrate are considered. Accurate and robust models based on Tree Ensembles and Artificial Neural Networks were developed in order to predict the trench depth.
Библиографическая запись: RIE Process Behavioral Models Based on Tree Ensembles and Neural Network / A. A. Popov [et. al.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIII Международной научно-практической конференции (29 ноября – 1 декабря 2017 г.): в 2 ч. – Ч. 2. – Томск: В-Спектр, 2017. – С. 214-216.
Ключевые слова:
PREDICTIVE MODELING TREE ENSEMBLES ARTIFICIAL NEURAL NETWORK VIRTUAL METROLOGY MACHINE LEARNING REACTIVE ION ETCHINGКонференция:
- Электронные средства и системы управления: XIII Международная научно-практическая конференция, посвященная 55-летию ТУСУРа
- Россия, Томская область, Томск, 29 ноября-01 декабря 2017,
- Международная
Издательство:
В-Спектр
Россия, Томская область, Томск