Методические указания к практическим занятиям
Библиографическая запись:
Оглавление (содержание)
Введение ..................................................................................................................5
Тема 1. Введение. Основные определения и физические основы нанотехнологий фотоники. ...6
Занятие 1. Безмасляные вакуумные системы для эпитаксии и их расчет 6
Методические указания ...........................................................................................6
Пример расчета вакуумной системы ......................................................................7
Задание ......................................................................................................................8
Тема 2. Эпитаксия, нанесение металлов и диэлектриков. .................................8
Занятие 1. Расчет параметров формирования нанослоев (скорости, толщины, массопереноса) ........8
Методические указания ...........................................................................................8
Задачи ......................................................................................................................11
Задание ....................................................................................................................12
Занятие 2. Разработка алгоритма работы эпитаксиального вакуумного оборудования ........12
Задание ....................................................................................................................13
Занятие 3. Расчет параметров газофазных реакций, расчет сорбционных и диффузионных процессов ........13
Занятие 4. Расчет электрофизических параметров оборудования для формирования и обработки эпитаксиальных нанослоев .............................15
Методические указания............................................................ 15
Задачи ...............................................................................................15
Задание ............................................................................................16
Тема 3. Методы оптической литографии. Современные технологии оптической литографии: концепции развития, основы нанолитографии, иммерсионная литография, голографическая литография ..............................16
Занятия 1. Решение задач по теме литографии ............................................16
Тема 4. Формирование периодических наноструктур в диэлектрических и полупроводниковых средах с различной размерностью .................................17
Занятие 1. Разработка маршрутной карты для формирования покрытий в вакууме ..............17
Задание ....................................................................................................................18
Занятие 2. Разработка операционных карт техпроцесса .............................18
Задание ....................................................................................................................19
Занятие 3. Расчет параметров технологичности процесса формирования нанослоев............. 19
Методические указания .........................................................................................19
Пример решения задач ...........................................................................................21
Список литературы ..............................................................................................22