Review of the application of virtual metrology approach in semiconductor manufacturing
Статья в сборнике трудов конференции
The article presents a brief review of virtual metrology technique. We give the definition and some general overview of virtual metrology and consider its advantages and application for semiconductor manufacturing. We also explore the problems of VM maintenance.
Библиографическая запись: Review of the application of virtual metrology approach in semiconductor manufacturing [Электронный ресурс] / A. S. Salnikov [et. al.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIV Международной научно-практической конференции (28–30 ноября 2018 г.): в 2 ч. – Ч. 2. – Томск: В-Спектр, 2018. – С. 274-277.
Конференция:
- XIV Международная научно-практическая конференция "Электронные средства и системы управления"
- Россия, Томская область, Томск, 28-30 ноября 2018,
- Международная
Издательство:
В-Спектр
Россия, Томская область, Томск